[发明专利] 硅基狭缝组件及将其装配到光路中的方法 – CN114114492A 全文链接一   全文链接二

 
基本信息
申请号
CN202111445855.1
申请日
20211130
公开(公告)号
CN114114492A
公开(公告)日
20220301
申请(专利权)人
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请人地址
130033 吉林省长春市经济技术开发区东南湖大路3888号
发明人
陶金;朱立财;樊凯莉;赵永周;李盼园;梁静秋;吕金光;秦余欣;王惟彪 专利类型 发明专利
摘要
本发明提供硅基狭缝组件及将其装配到光路中的方法,硅基狭缝组件包括硅基片、狭缝、梯形槽、吸光材料层、金属保护层和圆盘;硅基片的晶面晶向指数为<111>,轮廓形状为等腰三角形;硅基片的入射面开设有狭缝;硅基片的出射面开设有梯形槽;从硅基片的入射面至其出射面方向,梯形槽的槽宽逐渐变大;狭缝与梯形槽连通用以供入射光通过硅基片,并且梯形槽的槽底宽度大于狭缝的宽度;吸光材料层位于硅基片的入射面上;金属保护层位于硅基片的出射面上;圆盘上设有与硅基片的轮廓形状相匹配的第一三角孔。本发明的硅基片相比于矩形的硅基狭缝,具有集成度高的优点,而且硅基狭缝组件的结构紧凑、定位度高,便于装配到光路中。
主权项
1.硅基狭缝组件,其特征在于,包括硅基片(1)、狭缝(2)、梯形槽(3)、吸光材料层(4)、金属保护层(5)和圆盘(9);所述硅基片(1)的晶面晶向为<111>,且轮廓形状为等腰三角形;所述硅基片(1)的入射面开设有所述狭缝(2);所述硅基片(1)的出射面开设有梯形槽(3),所述狭缝(2)的长度方向和所述梯形槽(3)的长度方向分别垂直所述硅基片(1)轮廓形状的底边(13)布置;所述狭缝(2)置于所述硅基片(1)的中心线上;从所述硅基片(1)的入射面至其出射面方向,所述梯形槽(3)的槽宽逐渐变大;所述狭缝(2)与所述梯形槽(3)连通用以供入射光通过所述硅基片(1),并且所述梯形槽(3)的槽底宽度大于所述狭缝(2)的宽度;所述吸光材料层(4)位于所述硅基片(1)的入射面上,用以减小所述入射光的反射;所述金属保护层(5)位于所述硅基片(1)的出射面上,用以防止杂散光透过所述硅基片(1);所述圆盘(9)上设有整体为等腰三角形的通孔,所述通孔提供与所述硅基片(1)的轮廓形状相匹配的第一三角孔(8)。

 

 
IPC信息
IPC主分类号
G02B5/18
G 物理

G02 光学

G02B 光学元件、系统或仪器

G02B5/18 衍射光栅

 

 
法律状态信息
法律状态公告日
20220301
法律状态
公开 法律状态信息
CN202111445855 20220301 公开 公开

 

 
代理信息
代理机构名称
长春中科长光知识产权代理事务所(普通合伙) 22218
代理人姓名
陈新英