[发明专利] 用于套刻精度测量的标记系统及量测方法 – CN114167693A 全文链接一   全文链接二

 
基本信息
申请号
CN202010948689.6
申请日
20200910
公开(公告)号
CN114167693A
公开(公告)日
20220311
申请(专利权)人
中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司
申请人地址
100029 北京市朝阳区北土城西路3号
发明人
梁时元;丁明正;贺晓彬;王桂磊;刘强 专利类型 发明专利
摘要
本申请公开了一种用于套刻精度测量的标记系统及量测方法,系统包括:第一图案层上的第一套刻标记和第二图案层上的第二套刻标记;其中,所述第二套刻标记为接触孔,所述第一套刻标记的垂直投影全部位于第二套刻标记内。通过将接触孔(即实际图案)作为图案层的套刻标记,透过接触孔标记可以看到另一图案层的套刻标记,便于量测设备测量本图案层与另一图案层之间的套刻精度,由于将实际图案作为套刻标记,可以节省单独套刻标记工艺,缩短工艺时间,同时也避免了制作套刻标记工艺带来的测量误差,从而使得测量值与实际产品的套刻精度一致,可以提升产品的良率。
主权项
1.一种用于套刻精度测量的标记系统,其特征在于,所述系统包括:第一图案层上的第一套刻标记和第二图案层上的第二套刻标记;其中,所述第二套刻标记为接触孔,所述第一套刻标记的垂直投影全部位于第二套刻标记内。

 

 
IPC信息
IPC主分类号
G03F9/00
G 物理

G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术

G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备

G03F9/00 原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位,例如自动地(G03F7/22优先;照相蒙片的制备入G03F1/00;在复制用的照相印片设备中的入G03B27/00)〔4〕

 

 
法律状态信息
法律状态公告日
20220311
法律状态
公开 法律状态信息
CN202010948689 20220311 公开 公开

 

 
代理信息
代理机构名称
北京辰权知识产权代理有限公司 11619
代理人姓名
刘广达