[发明专利] 消杂光遮光系统 – CN114166340A 全文链接一 全文链接二
| 基本信息 | |||
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申请号
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CN202111468605.X |
申请日
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20211203 |
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公开（公告）号
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CN114166340A |
公开（公告）日
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20220311 |
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申请（专利权）人
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中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | ||
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申请人地址
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130033 吉林省长春市经济技术开发区东南湖大路3888号
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发明人
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叶新;张瀚元;方伟 | 专利类型 | 发明专利 |
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摘要
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本发明提供一种消杂光遮光系统，包括在同一光轴上依次设置的一级遮光罩、二级遮光罩；一级遮光罩包括与光轴垂直设置的一级挡光环组，一级挡光环组包括M个一级挡光环，M个挡光环依次设置在一级遮光罩的镜筒内；二级遮光罩包括与光轴倾斜设置的二级挡光环组，二级挡光环组包括N个二级挡光环，N个挡光环依次设置在二级遮光罩的镜筒内。本发明所提供的消杂光遮光系统在有限的空间内将太阳离轴角为45°时，入射杂散辐射抑制到系统探测地球辐射的0.05％，具有高杂光抑制比，增加地球辐射观测时长，并且节约发射成本。 | ||
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主权项
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1.一种消杂光遮光系统，其特征在于，包括在同一光轴上依次设置的一级遮光罩、二级遮光罩；其中，所述一级遮光罩包括与所述光轴垂直设置的一级挡光环组，所述一级挡光环组包括M个一级挡光环，M个一级挡光环依次设置在所述一级遮光罩的镜筒内；所述二级遮光罩包括与所述光轴倾斜设置的二级挡光环组，所述二级挡光环组包括N个二级挡光环，N个二级挡光环依次设置在所述二级遮光罩的镜筒内；其中，M≥6，N≥7；光束依次经过所述一级遮光罩、所述二级遮光罩消除杂光后入射至光学系统。 | ||
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IPC信息
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IPC主分类号
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G01J1/02 | ||
| G 物理
G01 测量；测试 G01J 红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分，偏振、相位或脉冲特性的测量；比色法；辐射高温测定法 G01J1/02 零部件 |
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法律状态信息
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法律状态公告日
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20220311 |
法律状态
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公开 | 法律状态信息 |
CN202111468605 20220311 公开 公开
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代理信息
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代理机构名称
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长春中科长光知识产权代理事务所(普通合伙) 22218 |
代理人姓名
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高一明 |