[发明专利] 基于金属-介质条形阵列的超分辨透镜的制备方法及应用 – CN114114481A 全文链接一 全文链接二
| 基本信息 | |||
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申请号
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CN202111538112.9 |
申请日
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20211215 |
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公开（公告）号
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CN114114481A |
公开（公告）日
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20220301 |
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申请（专利权）人
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中国科学院光电技术研究所 | ||
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申请人地址
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610209 四川省成都市双流350信箱
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发明人
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罗先刚;罗云飞;刘凯鹏;谷雨;高平;赵泽宇 | 专利类型 | 发明专利 |
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摘要
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本公开提供了一种基于金属‑介质条形阵列的超分辨透镜的制备方法，包括：对第一衬底上的第一材料层进行光刻，得到光栅结构；交替沉积第二、第三材料层，直至将光栅结构填平，得到第一过渡结构，第二、第三材料层中一种为金属，另一种为介质；对第一过渡结构进行平坦化，其深度至少达到光栅结构的顶部，得到第二过渡结构；将其上表面与第二衬底进行固化；去除第一衬底，使第二过渡结构翻转至第二衬底上，得到第三过渡结构；再次进行平坦化，平坦化的深度至少达到最后一次沉积的第二材料层或第三材料层的顶部，得到基于金属‑介质条形阵列的超分辨透镜。本公开得到的超分辨透镜，入射光只沿着金属‑介质界面处传输，有效提升了能量利用效率。 | ||
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主权项
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1.一种基于金属‑介质条形阵列的超分辨透镜的制备方法，其特征在于，包括：S1，对第一衬底上的第一材料层进行光刻，得到光栅结构；S2，在所述光栅结构上交替沉积第二材料层、第三材料层，直至将所述光栅结构填平，得到第一过渡结构；其中，所述第二材料层、第三材料层中一种为金属，另一种为介质；S3，对所述第一过渡结构进行平坦化，所述平坦化的深度至少达到所述光栅结构的顶部，得到第二过渡结构；S4，将所述第二过渡结构的上表面与第二衬底进行固化；S5，去除所述第一衬底，使所述第二过渡结构翻转至所述第二衬底上，得到第三过渡结构；S6，对所述第三过渡结构进行平坦化，所述平坦化的深度至少达到所述S2中最后一次沉积的所述第二材料层或所述第三材料层的顶部，得到基于金属‑介质条形阵列的超分辨透镜。 | ||
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IPC信息
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IPC主分类号
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G02B3/00 | ||
| G 物理
G02 光学 G02B 光学元件、系统或仪器 G02B3/00 简单或复合透镜(人造眼入A61F2/14；眼睛用透镜或接触透镜入G02C；钟表玻璃入G04B39/00) |
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法律状态信息
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法律状态公告日
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20220301 |
法律状态
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公开 | 法律状态信息 |
CN202111538112 20220301 公开 公开
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代理信息
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代理机构名称
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中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人姓名
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王文思 |