[发明专利] 基于反应离子刻蚀的柔性可拉伸金膜电极及其制备方法 – CN114107922A 全文链接一   全文链接二

 
基本信息
申请号
CN202111281420.8
申请日
20211101
公开(公告)号
CN114107922A
公开(公告)日
20220301
申请(专利权)人
中国科学院深圳先进技术研究院
申请人地址
518055 广东省深圳市南山区深圳大学城学苑大道1068号
发明人
刘志远;李光林;赵阳;余潜衡远 专利类型 发明专利
摘要
本申请公开了一种基于反应离子刻蚀的柔性可拉伸金膜电极及其制备方法,涉及电极材料技术领域。制备方法包括以下步骤:在经过反应离子刻蚀工艺处理后的高分子柔性基底表面磁控溅射一层金薄膜;其中,金薄膜的厚度为10‑40纳米,金薄膜具有微米和/或纳米尺度的裂纹结构。本申请用于提高柔性金膜电极的可拉伸性能。
主权项
1.一种基于反应离子刻蚀的柔性可拉伸金膜电极的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:在经过反应离子刻蚀工艺处理后的高分子柔性基底的表面磁控溅射一层金薄膜;其中,所述金薄膜的厚度为10‑40纳米,所述金薄膜具有微米和/或纳米尺度的裂纹结构。

 

 
IPC信息
IPC主分类号
C23C14/35
C 化学;冶金

C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制

C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆

C23C14/35 利用磁场的,例如磁控溅射〔5〕

 

 
法律状态信息
法律状态公告日
20220301
法律状态
公开 法律状态信息
CN202111281420 20220301 公开 公开

 

 
代理信息
代理机构名称
北京市诚辉律师事务所 11430
代理人姓名
朱伟军;耿慧敏