[发明专利] 利用CVI法或CVD法制备SiC基体或SiC涂层用尾气处理装置和尾气处理方法 – CN114053818A 全文链接一   全文链接二

 
基本信息
申请号
CN202111292248.6
申请日
20211103
公开(公告)号
CN114053818A
公开(公告)日
20220218
申请(专利权)人
中国科学院金属研究所
申请人地址
110016 辽宁省沈阳市沈河区文化路72号
发明人
汤素芳;庞生洋;胡成龙;李建;赵日达 专利类型 发明专利
摘要
本发明公开一种利用CVI法或CVD法制备SiC基体或SiC涂层用尾气处理装置和尾气处理方法,属于尾气处理方法和装置技术领域。该装置包括真空泵、真空泵前级处理系统和真空泵后级处理系统;其中:所述真空泵前级处理系统包括依次连接的金属滤芯处理器、超细薄膜滤芯处理器、安全阀5和油膜吸附处理器,所述金属滤芯处理器与沉积炉(CVD或CVI)相连接;所述真空泵后级处理系统包括相连接的颗粒吸附处理器和排风机;所述真空泵分别连接所述油膜吸附处理器、颗粒吸附处理器以及沉积炉(CVD炉或CVI炉)。本发明方法和装置可实现CVI设备连续长时间运转,高效率、低成本、操作简单、使用维护方便。
主权项
1.一种利用CVI法或CVD法制备SiC基体或SiC涂层用尾气处理装置,其特征在于:该装置包括真空泵、真空泵前级处理系统和真空泵后级处理系统;其中:所述真空泵前级处理系统包括依次连接的金属滤芯处理器、超细薄膜滤芯处理器、安全阀和油膜吸附处理器,所述金属滤芯处理器与沉积炉相连接;所述真空泵后级处理系统包括相连接的颗粒吸附处理器和排风机;所述真空泵分别连接所述油膜吸附处理器、颗粒吸附处理器以及沉积炉。

 

 
IPC信息
IPC主分类号
B01D50/60
B 作业;运输

B01 一般的物理或化学的方法或装置

B01D 分离

 

 
法律状态信息
法律状态公告日
20220218
法律状态
公开 法律状态信息
CN202111292248 20220218 公开 公开

 

 
代理信息
代理机构名称
沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002
代理人姓名
于晓波