[发明专利] 光刻胶组合物及其应用 – CN114153123A 全文链接一   全文链接二

 
基本信息
申请号
CN202111513743.5
申请日
20211210
公开(公告)号
CN114153123A
公开(公告)日
20220308
申请(专利权)人
中国科学院光电技术研究所
申请人地址
610209 四川省成都市双流350信箱
发明人
罗先刚;杨东旭;彭献;苏凯欣;赵泽宇;高平;王长涛 专利类型 发明专利
摘要
本公开提供了一种光刻胶组合物,包括:化学放大基体,化学放大基体包括聚合物树脂、光致酸产生剂和溶剂;溶解抑制剂,为包含重氮萘醌结构的小分子材料。本公开还提供了该光刻胶组合物的应用。本公开的光刻胶组合物通过加入具有重氮萘醌结构的溶解抑制剂,可实现高留膜率的超薄光刻胶膜层,同时增加曝光区与非曝光区域的化学对比度,实现了光刻灵敏度、对比度、分辨率的共同提升。
主权项
1.一种光刻胶组合物,其特征在于,包括:化学放大基体,所述化学放大基体包括聚合物树脂、光致酸产生剂和溶剂;溶解抑制剂,为包含重氮萘醌结构的小分子材料。

 

 
IPC信息
IPC主分类号
G03F7/004
G 物理

G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术

G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备

G03F7/004 感光材料(G03F7/12,G03F7/14优先)〔5〕

 

 
法律状态信息
法律状态公告日
20220308
法律状态
公开 法律状态信息
CN202111513743 20220308 公开 公开

 

 
代理信息
代理机构名称
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人姓名
王文思