[发明专利] 光刻胶组合物及其应用 – CN114153123A 全文链接一 全文链接二
| 基本信息 | |||
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申请号
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CN202111513743.5 |
申请日
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20211210 |
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公开（公告）号
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CN114153123A |
公开（公告）日
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20220308 |
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申请（专利权）人
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中国科学院光电技术研究所 | ||
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申请人地址
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610209 四川省成都市双流350信箱
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发明人
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罗先刚;杨东旭;彭献;苏凯欣;赵泽宇;高平;王长涛 | 专利类型 | 发明专利 |
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摘要
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本公开提供了一种光刻胶组合物，包括：化学放大基体，化学放大基体包括聚合物树脂、光致酸产生剂和溶剂；溶解抑制剂，为包含重氮萘醌结构的小分子材料。本公开还提供了该光刻胶组合物的应用。本公开的光刻胶组合物通过加入具有重氮萘醌结构的溶解抑制剂，可实现高留膜率的超薄光刻胶膜层，同时增加曝光区与非曝光区域的化学对比度，实现了光刻灵敏度、对比度、分辨率的共同提升。 | ||
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主权项
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1.一种光刻胶组合物，其特征在于，包括：化学放大基体，所述化学放大基体包括聚合物树脂、光致酸产生剂和溶剂；溶解抑制剂，为包含重氮萘醌结构的小分子材料。 | ||
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IPC信息
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IPC主分类号
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G03F7/004 | ||
| G 物理
G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备 G03F7/004 感光材料(G03F7/12，G03F7/14优先)〔5〕 |
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法律状态信息
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法律状态公告日
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20220308 |
法律状态
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公开 | 法律状态信息 |
CN202111513743 20220308 公开 公开
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代理信息
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代理机构名称
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中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人姓名
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王文思 |