[发明专利] 一种铜掺氧化锌透明导电薄膜及其制备方法 – CN114107917A 全文链接一   全文链接二

 
基本信息
申请号
CN202111332943.0
申请日
20211111
公开(公告)号
CN114107917A
公开(公告)日
20220301
申请(专利权)人
中国科学院宁波材料技术与工程研究所
申请人地址
315201 浙江省宁波市镇海区中官西路1219号
发明人
李朋;孟凡平;葛芳芳;黄峰 专利类型 发明专利
摘要
本发明公开一种CZO透明导电薄膜,成分组成为:Cu(1at.%~2at.%),Zn(48at.%~50at.%),O(50at.%~52at.%),呈纤维状生长结构,包括多条被阻断的柱状晶,相邻柱状晶之间无微裂纹或微孔洞,密度为5.3~5.5g/cm3。该导电薄膜具有较低的电阻率,较好的透光率。本发明还提供了一种CZO透明导电薄膜的制备方法,包括:向镀膜腔室抽真空,持续通入惰性气体,设置靶电源参数,采用纯CZO陶瓷靶在基体上进行单靶溅射、以ZnO陶瓷靶和金属Cu靶在基体上进行双靶共溅射或以ZnCu合金靶在基体上进行反应溅射以形成CZO透明导电薄膜。该方法制备简单、高效。
主权项
1.一种铜掺氧化锌透明导电薄膜,其特征在于,所述的透明导电薄膜成分组成为:Cu(1at.%~2at.%),Zn(48at.%~50at.%),O(50at.%~52at.%),其中at.%指原子百分比,Cu在薄膜中同时以+1价和+2价存在;所述的铜掺氧化锌透明导电薄膜呈纤维状柱状晶生长结构,相邻纤维状柱状晶之间无微裂纹或微孔洞,密度为5.3~5.5g/cm3。

 

 
IPC信息
IPC主分类号
C23C14/34
C 化学;冶金

C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制

C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆

C23C14/34 溅射〔4〕

 

 
法律状态信息
法律状态公告日
20220301
法律状态
公开 法律状态信息
CN202111332943 20220301 公开 公开

 

 
代理信息
代理机构名称
杭州天勤知识产权代理有限公司 33224
代理人姓名
刘诚午