[发明专利] 一种基于Mueller矩阵的镀膜后光学镜头偏振特性分析方法 – CN114167602A 全文链接一   全文链接二

 
基本信息
申请号
CN202111508298.3
申请日
20211210
公开(公告)号
CN114167602A
公开(公告)日
20220311
申请(专利权)人
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请人地址
130000 吉林省长春市东南湖大路3888号
发明人
鞠学平;李作恩;颜昌翔;顾志远 专利类型 发明专利
摘要
一种基于Mueller矩阵的镀膜后光学镜头偏振特性分析方法涉及光学系统分析领域,解决了现有技术中无法在设计阶段,对光学系统偏振特性进行计算和改进的问题。本发明的方法通过正向推导,沿着光线实际传播方向,依次建立整个光学系统不同镜面及其表面膜系的Mueller矩阵分析模型,利用本方法的研究成果,既可以利用Mueller矩阵联乘的方式得到整个光学系统的Mueller矩阵表征形式,分析其偏振特性;又可以通过分析每个镜面、膜系的Mueller矩阵,研究其单独的偏振影响,并进行针对性地改进设计,最终实现大视场、宽波段、低起偏特性的光学系统设计与优化。对偏振光谱遥感仪器的高精度设计、定量化应用具有重要的理论意义和工程价值。
主权项
1.一种基于Mueller矩阵的镀膜后光学镜头偏振特性分析方法,其特征在于,该分析方法包括如下步骤:步骤一:利用入射介质‑薄膜界面的折射率、入射角、厚度、波长计算镜头表面第一层膜的特征矩阵和出射光线角度,然后计算其余多层薄膜的特征矩阵和出射光线的角度,最后将膜系中所有的特征矩阵依次连乘得到整个膜系的传输矩阵;步骤二:根据步骤一所述的整个膜系的传输矩阵和镜头材料的特征矩阵计算得到整个膜系的特征矩阵,通过所述整个膜系的特征矩阵计算得到整个膜系的组合导纳;步骤三:利用s光和p光各自的入射介质导纳,入射介质的入射角,镜头的入射角即可计算得到s光和p光的振幅透射,进而求得s光和p光透过率和整个膜系透射相位延迟;步骤四:利用步骤三所述的s光和p光的振幅透射,s光和p光透过率和整个膜系透射相位延迟,即可求得整个膜系的Mueller矩阵表征形式;通过所述步骤一中的出射光线角度和镜头参数,根据菲涅尔公式即可求得镜片表面的Mueller矩阵;建立镀膜后光学镜头的Mueller矩阵,用于分析镀膜后光学镜头的偏振特性。

 

 
IPC信息
IPC主分类号
G02B27/00
G 物理

G02 光学

G02B 光学元件、系统或仪器

G02B27/00 其他光学系统;其他光学仪器(使商店橱窗或陈列柜产生特别光学效果的装置入A47F,例如,A47F11/06;光学玩具入A63H33/22;以具有特殊光学效果为特征的设计或图样入B44F1/00)

 

 
法律状态信息
法律状态公告日
20220311
法律状态
公开 法律状态信息
CN202111508298 20220311 公开 公开

 

 
代理信息
代理机构名称
长春众邦菁华知识产权代理有限公司 22214
代理人姓名
李青