[发明专利] 一种可调狭缝装置、光刻机和调节狭缝的方法 – CN114253081A 全文链接一   全文链接二

 
基本信息
申请号
 CN202011017818.6
申请日
 20200924
公开（公告）号
 CN114253081A
公开（公告）日
 20220329
申请（专利权）人
 中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司
申请人地址
100029 北京市朝阳区北土城西路3号
发明人
 刘智龙;权炳仁;李大烨;贺晓彬;丁明正;刘强 专利类型 发明专利
摘要
 本发明涉及一种可调狭缝装置、光刻机和调节狭缝的方法，包括：控制器、多个移动杆和多个调光窗；所述多个调光窗中的每两个在第一方向上相对布置，形成一对调光窗，每一对调光窗在垂直于第一方向的第二方向上呈依次排列；所述多个移动杆中的每个对应连接一个调光窗；所述控制器连接所述多个移动杆。通过控制器控制调光窗的透过率，不需要使用电机控制过滤棒移动，可以缩小透光窗的尺寸，增加透光窗的数量，从而快速且细微的调整关键尺寸一致性。并且，还能够提升产品的收率。
主权项
 1.一种用于半导体的可调狭缝装置，其特征在于，包括：控制器、多个移动杆和多个调光窗；所述多个调光窗中的每两个在第一方向上相对布置，形成一对调光窗，每一对调光窗在垂直于第一方向的第二方向上呈依次排列；所述多个移动杆中的每个对应连接一个调光窗；所述控制器连接所述多个移动杆。

 

 
IPC信息
IPC主分类号
 G03F7/20
G 物理

G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/20 曝光及其设备(复制用照相印制设备入G03B27/00)〔4〕

 

 
法律状态信息
法律状态公告日
 20220329
法律状态
 公开 法律状态信息
CN202011017818 20220329 公开 公开

 

 
代理信息
代理机构名称
 北京辰权知识产权代理有限公司 11619
代理人姓名
 刘广达