[发明专利] 用于高功率激光的透反式多区滤波光阑装置 – CN114063306A 全文链接一 全文链接二
| 基本信息 | |||
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申请号
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CN202111257585.1 |
申请日
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20211027 |
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公开（公告）号
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CN114063306A |
公开（公告）日
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20220218 |
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申请（专利权）人
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中国科学院理化技术研究所 | ||
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申请人地址
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100190 北京市海淀区中关村东路29号
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发明人
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薄勇;吴祥议政;徐健;龚柯菱;寇洋;袁磊;彭钦军 | 专利类型 | 发明专利 |
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摘要
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本发明公开了一种用于高功率激光的透反式多区滤波光阑装置，包括：基板，所述基板包括入射面和与所述入射面相对的出射面；其中，所述入射面包括高功率透射区域和高功率反射区域，所述高功率反射区域设为多个，所述高功率透射区域由多个所述高功率反射区域围合而成预设的形状，入射光束经过所述高功率透射区域由出射面输出形成目标光斑。通过一部分入射光束经由高功率反射区域反射出主光路，另一部分入射光束经由高功率透射区域由出射面输出形成目标光斑，既可实现对光束形态的精准调控，又可避免光阑吸收部分入射光能量导致损伤，从而可适应高功率激光的应用需求。 | ||
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主权项
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1.一种用于高功率激光的透反式多区滤波光阑装置，其特征在于，包括：基板，所述基板包括入射面和与所述入射面相对的出射面；其中，所述入射面包括高功率透射区域和高功率反射区域，所述高功率反射区域设为多个，所述高功率透射区域由多个所述高功率反射区域围合而成预设的形状，入射光束经过所述高功率透射区域由出射面输出形成目标光斑。 | ||
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IPC信息
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IPC主分类号
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G02B27/09 | ||
| G 物理
G02 光学 G02B 光学元件、系统或仪器 G02B27/09 其他位置不包括的光束整形，例如改变横截面积〔6〕 |
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法律状态信息
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法律状态公告日
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20220218 |
法律状态
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公开 | 法律状态信息 |
CN202111257585 20220218 公开 公开
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代理信息
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代理机构名称
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北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 |
代理人姓名
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郑久兴 |