[发明专利] 一种牌号为MP-2的高强度耐氢脆膜片及制备方法 – CN114058977A 全文链接一   全文链接二

 
基本信息
申请号
 CN202111223318.2
申请日
 20211020
公开（公告）号
 CN114058977A
公开（公告）日
 20220218
申请（专利权）人
 中国科学院金属研究所
申请人地址
110016 辽宁省沈阳市沈河区文化路72号
发明人
 赵明久;刘家兴;姜海昌;戎利建 专利类型 发明专利
摘要
 本发明涉及氢能装备关键材料部件领域，具体地说是一种牌号为MP‑2的高强度耐氢脆膜片及制备方法。按重量百分计，合金化学成分为，Ni：5.50～8.50，Cr：19.00～22.00，Mn：8.50～10.50，N：0.22～0.36，Si≤0.80，Fe：余量。本发明基于氮元素固溶强化和晶界调控来保证膜片的强度和耐氢脆能力，通过真空或非真空感应熔炼→钢模铸造→电渣重熔→锻造→热轧制→冷轧制→固溶处理→小变形冷轧→切割加工定尺→成品热处理→膜片表面处理的方法制备膜片，膜片厚度0.4～0.6mm，直径不小于200mm，表面粗糙度Ra不超过0.6μm、平面度不大于0.06mm，其室温及200℃屈服强度可分别达350MPa和240MPa以上，同时兼有良好的塑性、耐氢脆能力和耐疲劳性能，可在45MPa及以上级的氢气隔膜压缩机中作为临氢气侧膜片使用。
主权项
 1.一种牌号为MP‑2的高强度耐氢脆膜片，其特征在于，膜片的厚度0.4～0.6mm，直径不小于200mm、表面粗糙度Ra≤0.6μm、平面度不大于0.06mm；按重量百分比计，膜片的主要成分范围如下：Ni：5.50～8.50，Cr：19.00～22.00，Mn：8.50～10.50，N：0.22～0.36，Fe及不可避免的残余元素：余量；不可避免的残余元素包括：碳、硫、磷、硅，碳含量控制在≤0.030，硫含量控制在≤0.009，磷含量控制在≤0.015，硅含量控制在≤0.80。

 

 
IPC信息
IPC主分类号
 C22C38/58
C 化学；冶金

C22 冶金；黑色或有色金属合金；合金或有色金属的处理

C22C 合金

C22C38/58 含大于1.5（重量）的锰〔2〕

 

 
法律状态信息
法律状态公告日
 20220218
法律状态
 公开 法律状态信息
CN202111223318 20220218 公开 公开

 

 
代理信息
代理机构名称
 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234
代理人姓名
 张志伟