[发明专利] 一种基于光源添加辅助图形的方法和装置 – CN114089595A 全文链接一   全文链接二

 
基本信息
申请号
 CN202111322037.2
申请日
 20211109
公开（公告）号
 CN114089595A
公开（公告）日
 20220225
申请（专利权）人
 中国科学院微电子研究所
申请人地址
100029 北京市朝阳区北土城西路3号
发明人
 高澎铮;韦亚一;张利斌 专利类型 发明专利
摘要
 本发明涉及一种基于光源添加辅助图形的方法和装置，属于半导体技术领域，解决了现有基于规则的亚分辨率辅助图形无法适应光源因素的改变而导致的辅助图形添加不合理问题。该方法包括：获取基准光源的光源信息和与基准光源相对应的辅助图形添加规则列表；当光刻光源的光源信息不同于基准光源的光源信息时，基于光刻光源的光源信息修改辅助图形添加规则，以生成与光刻光源相对应的修改后的辅助图形添加规则列表；以及根据修改后的辅助图形添加规则列表获取用于版图的辅助图形添加规则并根据用于版图的辅助图形添加规则将待添加的辅助图形添加至版图中。降低了亚分辨率辅助图形添加的复杂性。
主权项
 1.一种基于光源添加辅助图形的方法，其特征在于，包括：获取基准光源的光源信息和与所述基准光源相对应的辅助图形添加规则列表；当光刻光源的光源信息不同于所述基准光源的光源信息时，基于所述光刻光源的光源信息修改辅助图形添加规则，以生成与所述光刻光源相对应的修改后的辅助图形添加规则列表；以及根据修改后的辅助图形添加规则列表获取用于版图的辅助图形添加规则并根据用于版图的辅助图形添加规则将待添加的辅助图形添加至所述版图中。

 

 
IPC信息
IPC主分类号
 G03F1/00
G 物理

G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F1/00 用于图纹面的照相制版的原版的制备(一般照相制版工艺入G03F7/00)〔3〕

 

 
法律状态信息
法律状态公告日
 20220225
法律状态
 公开 法律状态信息
CN202111322037 20220225 公开 公开

 

 
代理信息
代理机构名称
 北京天达知识产权代理事务所(普通合伙) 11386
代理人姓名
 牛洪瑜